中国香港HVM光刻机

中国香港HVM光刻机

EVG120特征:

晶圆尺寸可达200毫米

超紧凑设计,占用空间最小

最多2个涂布/显影室和10个加热/冷却板

用于旋涂和喷涂,显影,烘烤和冷却的多功能模块的多功能组合为许多应用领域提供了巨大的机会

化学柜,用于化学品的外部存储

EV集团专有的OmniSpray®超声波雾化技术提供了无与伦比的处理结果,当涉及到极端地形的保形涂层

CoverSpinTM旋转盖可降低光刻胶消耗并优化光刻胶涂层的均匀性

Megasonic技术用于清洁,声波化学处理和显影,可提高处理效率并将处理时间从数小时缩短至数分钟

EVG的代理商岱美仪器能在全球范围内提供服务。中国香港HVM光刻机

HERCULES®

■全自动光刻跟/踪系统,模块化设计,用于掩模和曝光,集成了预处理和后处理能力

■高产量的晶圆加工

■最多8个湿法处理模块以及多达24个额外烘烤,冷却和蒸汽填料板

■基于EVG的IQAligner®或者EVG®6200

NT技术进行对准和曝光

■独立的柜内化学处理

■支持连续操作模式(CMO)

EVG光刻机可选项有:

手动和自动处理

我们所有的自动化系统还支持手动基片和掩模加载功能,以便进行过程评估。此外,该系统可以配置成处理弯曲,翘曲,变薄或非SEMI标准形状的晶片和基片。各种晶圆卡盘设计毫无任何妥协,带来最/大的工艺灵活性和基片处理能力。我们的掩模对准器配有机械或非接触式光学预对准器,以确保最/佳的工艺能力和产量。Load&Go选项可在自动化系统上提供超快的流程启动。河北光刻机国内用户HERCULES光刻机系统:全自动光刻跟/踪系统,模块化设计,用于掩模和曝光,集成了预处理和后处理能力。

EVG®150特征2:

先进且经过现场验证的机器人具有双末端执行器功能,可确保连续的高产量

处理厚或超薄,易碎,弯曲或小直径的晶圆

用于旋涂和喷涂,显影,烘烤和冷却的多功能模块的多功能组合为许多应用领域提供了巨大的机会

EFEM(设备前端模块)和可选的FSS(FOUP存储系统)

工艺技术卓/越和开发服务:

多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)

智能过程控制和数据分析功能[FrameworkSWPlatform]

用于过程和机器控制的集成分析功能

设备和过程性能跟/踪功能

并行/排队任务处理功能

智能处理功能

发生和警报分析

智能维护管理和跟/踪

EVG®610特征:

晶圆/基板尺寸从小到200mm/8''

顶侧和底侧对准能力

高精度对准台

自动楔形补偿序列

电动和程序控制的曝光间隙

支持最/新的UV-LED技术

最小化系统占地面积和设施要求

分步流程指导

远程技术支持

多用户概念(无限数量的用户帐户和程序,可分配的访问权限,不同的用户界面语言)

便捷处理和转换重组

台式或带防震花岗岩台的单机版

EVG®610附加功能:

键对准

红外对准

纳米压印光刻(NIL)

EVG®610技术数据:

对准方式

上侧对准:≤±0.5μm

底面要求:≤±2,0μm

红外校准:≤±2,0μm/具体取决于基板材料

键对准:≤±2,0μm

NIL对准:≤±2,0μm岱美是EVG光刻机在中国的代理商,提供本地化的优质服务。

EVG®150特征:晶圆尺寸可达300毫米

多达6个过程模块

可自定义的数量-多达20个烘烤/冷却/汽化堆

多达四个FOUP装载端口或盒式磁带装载

可用的模块包括旋转涂层,喷涂,NanoCoat?,显影,烘烤/冷却/蒸气/上等

EV集团专有的OmniSpray®超声波雾化技术提供了无与伦比的处理结果,当涉及到极端地形的保形涂层

可选的NanoSpray?模块实现了300微米深图案的保形涂层,长宽比最/高为1:10,垂直侧壁

广/泛的支持材料

烘烤模块温度高达250°C

Megasonic技术用于清洁,声波化学处理和显影,可提高处理效率并将处理时间从数小时缩短至数分钟

EVG101是光刻胶处理,EVG105是光刻胶烘焙机,EVG120、EVG150是光刻胶处理自动化系统。MEMS光刻机值得买

可以使用用于压印光刻的工具,例如紫外光纳米压印光刻,热压印或微接触印刷。中国香港HVM光刻机

EVG®610掩模对准系统

■晶圆规格

:100mm/150mm/200mm

■顶/底部对准精度达到±0.5μm/±1.0μm

■用于双面对准高/分辨率顶部和底部分裂场显微镜

■软件,硬件,真空和接近式曝光

■自动楔形补偿

■键合对准和NIL可选

■支持最/新的UV-LED技术

EVG®620NT/EVG®6200NT

掩模对准系统(自动化和半自动化)

■晶圆产品规格

:150mm/200mm

■接近式楔形错误补偿

■多种规格晶圆转换时间少于5分钟

■初次印刷高达180wph/自动对准模式为140wph

■可选独立的抗震型花岗岩平台

■动态对准实时补偿偏移

■支持最/新的UV-LED技术中国香港HVM光刻机

岱美仪器技术服务(上海)有限公司成立于2002-02-0700:00:00,是一家贸易型的公司。公司自成立以来,以质量为发展,让匠心弥散在每个细节,公司旗下["半导体工艺设备","半导体测量设备","光刻机键合机","膜厚测量仪"]深受客户的喜爱。公司注重以质量为中心,以服务为理念,秉持诚信为本的理念,打造仪器仪表优质品牌。在社会各界的鼎力支持下,经过公司所有人员的努力,公司自2002-02-0700:00:00成立以来,年营业额达到100-200万元。